在半导体制造湿法清洗工艺中，常用的清洗液*是去离子水（DIW， De-Ionzied Water），去离子水也被称为“超*水”或是“18兆欧水”。水中含有导电的阴阳离子，去离子水*是去除水中的导电离子，使水基本不导电。在半导体制造中，直接使用原水是根本不允许的， 一方面原水中的阴阳离子会污染晶圆的器件结构， 另一方面可能会引起器件的性能偏离。如原水可能会与晶圆表面的材料发生反应而腐蚀，或者会与晶圆上的一些金属形成电池腐蚀，还有可能引起晶圆表面电阻率的直接变化，从而导致晶圆的良率大幅下降甚至直接报废。在某些工艺步骤中，需要将去离子水加热到特定温度以优化反应*或清洗效果。

去离子水加热可以选择多种设备，具体选择取决于加热需求、精度要求、*标准以及成本考虑。高温空气能热泵针对去离子水加热有着不错的应用效果。

近日，张家港某半导体企业有去离子水加热需求，在寻求加热设备的时候，了解到高温空气能热泵更*，亿家人在原有高温空气能热泵的基础上做了技术改进和调整，使其更适合该企业去离子水加热工艺。

在系统设计方面，确保空气能热泵系统的设计合理，能够满足加热去离子水的具体需求。考虑系统的热负荷、水流速度、压力损失等因素，以确保系统的稳定性和可靠性。

在选择加热设备时，还需要考虑设备的*性、耐用性、维护成本以及与现有系统的兼容性。亿家人建议客户根据具体需求咨询相关工程师或设备供应商，以选择合适的加热设备。

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